盡管得到了黃令儀承諾的可以在年內(nèi)完成NADA芯片的承諾，然而對(duì)段云來說，如果想長(zhǎng)期在國(guó)際芯片產(chǎn)業(yè)占據(jù)一席之地，它還有很多的問題需要解決。

        而其中之一，就是要保證擁有制造芯片所需的最先進(jìn)的光刻機(jī)。

        說起光刻機(jī)，后世人們第一個(gè)想到的就是荷蘭的阿斯麥公司。

        其實(shí)在七八十年代的時(shí)候，咱們國(guó)家就已經(jīng)有了國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)。

        國(guó)產(chǎn)第1臺(tái)光刻機(jī)GK-3型半自動(dòng)接近式光刻機(jī)誕生于1977年，而那個(gè)時(shí)候荷蘭的阿斯麥連成立都沒有成立。

        光刻機(jī)是大系統(tǒng)高精尖技術(shù)和工程極限高度融合的結(jié)晶，被譽(yù)為集成電路產(chǎn)業(yè)鏈“皇冠上的明珠”。

        日本的尼康和佳能于20世紀(jì)60年代末開始進(jìn)入光刻機(jī)領(lǐng)域，中國(guó)利用光刻技術(shù)制造集成電路，大致也是始于同一時(shí)期。

        但是中國(guó)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)可以用一句話來形容，那就是：起了個(gè)大早，趕了個(gè)晚集。

        1965年，我國(guó)第1塊集成電路在北京，石家莊和上海等地相繼問世，1974年9月第1次全國(guó)大規(guī)模集成電路工業(yè)會(huì)議召開，國(guó)家紀(jì)委在北京召開的“全國(guó)大規(guī)模集成電路及基礎(chǔ)材料攻關(guān)大會(huì)戰(zhàn)會(huì)議”上，擬定的目標(biāo)是在1974年到1976年，突破大規(guī)模集成電路的工藝裝備基礎(chǔ)材料等方面的關(guān)鍵技術(shù)，司機(jī)部組織京滬電子工業(yè)會(huì)戰(zhàn)進(jìn)行大規(guī)模集成電路及材料裝備研發(fā)，突破超威力鋼板，光刻膠超純凈試劑，高純度氣體磁場(chǎng)，偏轉(zhuǎn)電子束鍍膜機(jī)等材料裝備。

        1975年12月第2次全國(guó)大規(guī)模集成電路會(huì)議在上海召開，1977年1月第3次全國(guó)大規(guī)模集成電路會(huì)議在貴州召開，這三次會(huì)議可以說直接導(dǎo)致了上世紀(jì)80年代前后，中科院系統(tǒng)電子部系統(tǒng)地方各研發(fā)單位光刻機(jī)成果的第1次大爆發(fā)。

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